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正中靶心雷击术合成公式大全

正中靶心雷击术合成公式是游戏中一项非常重要的技能,它能够提供强大的战斗力。下面将为大家列举一些正中靶心雷击术的合成公式,让大家更好地了解这一技能。

正中靶心雷击术合成公式大全

1、雷击伤害增幅:雷击伤害+80%

2、连续雷击:雷击额外释放1次,伤害-20%

3、高压雷击:雷击伤害+30%,麻痹时间+1.5秒

4、磁暴:雷击命中追加范围爆炸

5、电磁场:磁暴范围内生成低伤害和减速效果的电磁场(需要前置磁暴)

6、磁暴伤害增幅:磁暴伤害+80%(需要前置磁暴)

7、磁暴扩张:磁暴范围+80%(需要前置磁暴伤害增幅)

8、高压电场:电磁场伤害+400%(需要前置电磁场解锁)

9、稳定电场:电磁场伤害+50,持续时间+2秒(需要前置电磁场解锁)

10、电磁分裂:雷击命中后向6个方向释放穿透5的闪电球(需要前置高压雷击+雷击伤害增幅)

11、高压粒子:闪电球伤害+40%,并附带0.5秒的麻痹效果(需要前置电磁分裂)

12、雷电制裁:雷击直击伤害+150%,杀死怪物时,在小范围内再释放1次单体雷击(需要前置雷击伤害增幅+场外雷击术达到5级)

13、审判之雷:将雷击变为审批之雷,伤害+200%(需要前置高压雷击+雷电制裁+场外雷击术达到13级)

14、雷电法术精通:雷击,闪电链的冷却-20%(需要前置闪电链+场外雷击术达到21级)

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